技术参数：

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●采用比阻抗控制技术，节约环保设计理念，有效抑制超纯水中静电的产生。

●在半导体和FPD制造过程中，用于控制超纯水的比阻抗，防止静电破坏和微粒子附着。

●高纯水中的静电荷可以通过先进的比阻抗控制技术被消除，确保半导体和FPD工艺中水的电阻率在最佳条件下。


主要特点：

●根据不同用途选择合适的机型

●内置全机型阻抗探头，装机简便，配管容易。

●水量大，压力损失小，3000L/h时，压力损失仅为0.06MPa

●操作简单，控制精度高，只需设定所需阻抗值，即可实现±0.03MΩ/cm的精确控制

●可在高水压环境下运行，最高使用压力为0.5MPa

●快速响应水量变动，对水量变化迅速做出调整

●经济环保，无需使用高价的消耗品如Co2溶解膜，也无需排放Co2废气和废水

●杀菌效果好，可使用3%双氧水进行杀菌处理，无需担心细菌繁殖


机型：

Rack型N4R-1.0-50

N4R-2.0-120

N4R-3.0-120


Cabinet型N4C-1.0-50

N4C-2.0-120

N4C-3.0-120


处理量：

水流量100--1000L/h

200--2000L/h

300--3000L/h


控制范围：

0.15--1.7MΩ/cm

0.15--1.5MΩ/cm

0.15--1.9MΩ/cm


精度：

设定电阻率±0.03MΩ/cm


最大水压：

进水最大压力0.5MPa


CO2压力：

最大CO2压力0.7MPa


压力损失：

3000L/h时压力损失0.06MPa


接口尺寸：

3/4"女螺纹


重量外形尺寸：

Rack型28Kg，480W*430L*250H(mm)

Cabinet型67Kg，430W*430L*1350H(mm)


电源：

AC100--130V，AC220--240V，50/60Hz，单相1A