技术参数：
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●采用环保设计理念，利用比阻抗控制技术，来抑制超纯水中的静电产生。
●在半导体和FPD制造领域，以及晶元（芯片）切割过程中，用于控制超纯水的比阻抗，防止静电破坏和微粒子附着。
●高级比阻抗控制技术可消除高纯水中的静电充电。
●可在半导体工业的切割工序或FPD的高压冲洗工序中，控制冲洗水的比阻抗，使其处于最佳状态。

主要特点：
●可根据使用需求选择适当的机型。
●装机简便，全部机型均内置阻抗探头，管道布置方便。
●水量大，压力损失小，水量达到3000L/h时，压力仅减少0.06MPa。
●操作简单，控制精准。开机后只需输入所需的阻抗值，即可立即进行±0.03MΩ/cm的精确控制。
●可在高压力环境下运行，最大使用压力为0.5MPa，能够自由进行不同的机种配置。
●水量变化的响应速度快，即使水量发生剧烈变化，也能迅速进行调整控制。
●经济环保，无需Co2溶解膜等昂贵的耗材，也无需排放Co2和废水。
●可使用双氧水进行杀菌处理，无需担心细菌繁殖。

机型：
Rack型N4R-1.0-50
N4R-2.0-120
N4R-3.0-120
Cabinet型N4C-1.0-50
N4C-2.0-120
N4C-3.0-120

处理量：
水流量100--1000L/h
200--2000L/h
300--3000L/h

控制范围：
0.15--1.7MΩ/cm
0.15--1.5MΩ/cm
0.15--1.9MΩ/cm

精度：
设定比阻抗±0.03MΩ/cm

最大水压：
进水最大压力0.5MPa

CO2压力：
最大Co2压力0.7MPa

压力损失：
3000L/h时压力降0.06MPa

接口尺寸：
3/4"内螺纹

重量外形尺寸：
Rack型28Kg，480W*430L*250H(mm)
Cabinet型67Kg，430W*430L*1350H(mm)

电源：
AC100--130V，AC220--240V，50/60Hz，单相1A