高低温循环一体机CYGD-05200-6高低温水浴锅技术参数：

型号：CYGD-05200-6

温度范围（℃）：5~200

温度波动度(℃)：±0.05

工作槽容积(mm3)：250×200×150

工作槽开口(mm2)：180×140

槽深度（mm）：150

循环泵流量(L/min)：15

排水：有

型号：CYGD-05200-10

温度范围（℃）：5~200

温度波动度(℃)：±0.05

工作槽容积(mm3)：250×200×200

工作槽开口(mm2)：180×140

槽深度（mm）：150

循环泵流量(L/min)：15

排水：有

型号：CYGD-05200-15

温度范围（℃）：5~200

温度波动度(℃)：±0.05

工作槽容积(mm3)：300×250×200

工作槽开口(mm2)：235×160

槽深度（mm）：200

循环泵流量(L/min)：15

排水：有

型号：CYGD-05200-20

温度范围（℃）：5~200

温度波动度(℃)：±0.05

工作槽容积(mm3)：280×200×280

工作槽开口(mm2)：235×160

槽深度（mm）：280

循环泵流量(L/min)：15

排水：有

型号：CYGD-05200-30

温度范围（℃）：5~200

温度波动度(℃)：±0.05

工作槽容积(mm3)：400×325×230

工作槽开口(mm2)：310×280

槽深度（mm）：230

循环泵流量(L/min)：15

排水：有

高低温循环一体机CYGD-05200-6高低温水浴锅低温槽的工作原理和高低温恒温槽的用途以及发展趋势：

低温槽的工作原理：

在使用低温槽时，根据低温恒温槽时用的原理可以更好的发挥出低温槽的功能，并且在很大程度上延长低温槽的使用寿命。

低温槽工作时，如果工作温度高于环境温度，按设定功能键进入温度设定值设定状态，设定值末位闪烁，此时先按移位键后按加数键，设定好所需要的温度后，按功能键进行保存。这时测量显示的是当前槽内液体介质的温度，此后危机进入自动控制状态。

当工作温度低于环境温度，开启“制冷”开关，设定功能键进入温度设定值设定状态，设定值末位闪烁，这时西安按移位键后按减数键，设定您所需要等工作温度，在按设定功能键并保存设定值，此时测量显示的是当前槽内液体介质的温度，此后微机进入自动控制状态。

使用低温槽钱槽内应加入液体介质，一起养放在通风干燥处，后背及两侧离开障碍物300mm以上的距离，电源需要使用50hz220v，电源功率要大于或者等于一起的总功率，并且要有良好的接地装置，使用完毕后，所有开关置于关机状态，拔下电源插头。

高低温恒温槽的用途：

高低温恒温槽之所以在很多领域都有广泛的使用，是由于其固有特性引起的，高低温恒温槽采用风冷式全封闭压缩机制冷，本身在制冷速度上相当快，噪音低等特点，当制冷系统过热或者够电流等多重保护装置，当温度测量出现偏差时，智能微机能够迅速对其作出反应，使数显分辨率达到0.1摄氏度，特殊用户PID可以自行调节，高低温恒温槽本身又可分为内循环和外循环，外循环时可将槽内恒温液体外引，可见第二恒温场，还可以作为冷源或者热源将槽内的液体外引，从而降低或者是升高槽外部实验容器温度，扩展使用范围。

高低温循环一体机CYGD-05200-6高低温水浴锅低温槽的发展趋势：

在实验室中，建立一个冷热受控，温度均匀恒定的液体环境我们需要低温恒温槽，建立一个直接加热或制冷，或辅助加热或制冷的温度源我们需要低温恒温槽。低温恒温槽作为实验室常规仪器，已经很普遍的出现在我们的实验室等场所，对实验样品或生产的产品经行恒定的温度控制或测试。

在目前，国内的低温恒温槽已经取得了很大的发展和进步，从温控程序的升级到控温精度的提高，到仪器材质的选用都有很大程度上的提升，相比于一些进口品牌，有许多国产的低温恒温槽质量也有的一拼。试想一下，在未来，我们的低温恒温槽应该会是什么样的，是精度的越来越还是温控性越来越好呢？可以遐想一下，作为常规实验仪器他还欠缺什么。

1、在控温精度，未来的趋势肯定是越来越，目前许多低温恒温槽的精度都可达到±0.1，珀西瓦尔低温恒温槽可达到±0.05，相比现在的技术和科技，未来的控温精度还会有更高的提升。

2、在仪器的使用材质上，目前低温恒温槽采用的大都是不锈钢材质，不锈钢具有耐酸耐碱，耐腐蚀的作用，可以让满足实验室强酸强碱的实验需求，但使用仪器时需要及时清理仪器，长时间不使用要将仪器清洗干净，放在通风的地方。以保护仪器的使用寿命。在未来，或许会采用新的材质取代现有的不锈钢材质，因为实验会遇到各种各样的物质。

3、在仪器的程序控温开发上，会有很大的改进，现有的低温恒温槽一般都是采用多段程序控温，以便达到需要的低温环境，未来或许会有更好的程序达到这种效果。可控硅，是可控硅整流元件的简称，是一种具有三个PN结的四层结构的大功率半导体器件，亦称为晶闸管。具有体积小、结构相对简单、功能强等特点，是比较常用的半导体器件之一。该元件广泛应用于各种电子设备和电子产品中，常用于实现可控整流、逆变、变频、调压和无触点开关等功能。
可控硅的管芯结构由P型硅和N型硅组成的四层P1N1P2N2结构，具有三个PN结（J1、J2、J3）。从J1结构的P1层引出阳A，从N2层引出阴级K，从P2层引出控制G，是一种四层三端的半导体器件。
它由四层半导体材料组成，具有三个PN结，对外有三个电：层P型半导体引出的电叫阳A，三层P型半导体引出的电叫控制G，四层N型半导体引出的电叫阴K。
晶闸管具有单向导电性，不同于二管的工作特性，具有额外的控制G。以硅单晶为基本材料的P1N1P2N2四层三端器件，被称为硅晶体闸流管或晶闸管T。
可控硅SCR因具有可控性，能以毫安级电流控制大功率的机电设备，反应快、无触点运行、效率高。但静态及动态过载能力较差，容易受干扰而误导通。