产品简介
Pioneer 120 Advanced PLD System 是一个用于制备高质量的外延薄膜独立的系统、多层异质结构和各种材料的超晶格。这个PLD系统和the Pioneer 120 PLD System 的主要区别是衬底加热阶段。先锋120采用导电加热阶段,而Pioneer 120 Advanced PLD System 采用辐射加热阶段。加热器可兼容1大气压(760托)的氧气,这是一特性用于制备外延氧化膜,需要(i)沉积在氧气中,(ii)沉积后退火在氧气中,以及在接近1大气压的氧气中冷却。由于基底不与加热器直接连接,可以连续旋转360度。衬底也可以负载锁定。
这个脉冲激光沉积系统包括一个自动多目标转盘,带有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013) 控制基材加热器、目标转盘、过程压力、系统泵和激光触发。由于衬底可以转移,可进行多种选择。这些包括但不限于将PLD系统与各种其他沉积平台(如超高真空溅踱系统)集成,也与超高真空分析系统(如XPS/ARPES等)集成。
产品特点
独立的交钥匙PLD系统。
外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。
利用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。
氧化膜沉积的氧相容性。
升级:负载锁定,激光加热器,RF/DC溅射,组合PLD
与超高真空溅踱系统集成。
与XPS /ARPES超高真空集群工具集成。
技术指标
项目 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A |
最大wafer 直径 | 8” | 6” | 2” |
最大靶材数量 | 6 个1” 或3 个2” | 6 个1” 或3 个2” | 6 个1” 或3 个2” |
压力(Torr) * | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
真空室直径 | 24” | 18” | 12” |
基片加热器 | 360°旋转 | 360°旋转 | 360°旋转 |
最高样品温度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
Turbo 泵抽速* (liters/sec) | 700 软件控制 | 400 软件控制 | 260 软件控制 |
计算机控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋转 | 包括 | 包括 | 选件 |
基片预真空室 | 包括 | 选件 | 选件 |
扫描激光束系统 | 包括 | 选件 | - |
靶预真空室 | 包括 | 选件 | - |
IBAD 离子束辅助沉积 | 选件 | 选件 | 选件 |
CCS 连续组成扩展 | 选件 | 选件 | - |
高压RHEED | 选件 | 选件 | 选件 |
520 liters/sec 泵 | N/A | 选件 | - |