快速热处理（RTP）已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。为了满足市场的需求，ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口，MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能。

特点：

l 快速加热及冷却能力；

l 可在任意气氛中使用；

l 实时观测试样；

l 精确的温度控制；

型号

MILA-5000Series

温度范围：

室温~1200℃

加热功率：

50℃/s（50~1200℃）真空

45℃/s（50~1200℃）氮气氛围

温度均匀性：

±2.0℃（ΔT=4℃）1200℃真空

±4.5℃（ΔT=9℃）1200℃氮气氛围

加热气氛:

大气、真空、惰性气氛环境下

试样尺寸:

MAX：50 square or φ 50 x T5 (mm)

程序模组：

温度VS时间设定、Step数256、Program数32（Max）；

PID+Fuzzy控制、自动微调、USB通讯、自动/手动切换；