产地：日本； 品牌：日立
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专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV (SE)1.2nm / 1kV (SE)0.34nm / 30kV (STEM)
用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
日立高新磁控溅射器MC1000
日立质谱检测器Chromaster 5610
日立-基因测序仪/基因分析仪-DS3000
Regulus系列 (超高分辨场发射扫描电子显微镜)
日立新型超高分辨冷场发射扫描电镜 Hitachi SU9000
产品描述
