对天然的、富含杂质的矿石物质的抛光过程要比普通的岩石样品抛光困难的多。对物质的抛光要与该物质的地质属性相一致，此设备磨抛不同岩石薄片其厚度可以精确调节。 
该产品对样品的抛光会在同一时间内进行三个方面的操作： 
1）抛光盘的自动旋转。 2)样品夹持器自旋转。 3)磨料自动滴入。 
该设备同时处理1至5个样品薄片，可以在几分钟内同时完成打磨1个或5个样品的第一面。每个样品都有单独设置厚度的压片器（5个样品最大尺寸是30X45mm; 3个样品最大尺寸是45X60mm）。 
2) 抛光过程是定时控制，没有其它外力干扰，运转时间可控，精确控制薄片厚度。 
性能： 
磨头：1-5个 
转速：25到200rpm 
标准样品尺寸：30x45mm, 60x45mm,特定 
计时器：1到60分钟 
抛光盘直径：200mm， 硬度可调 
多种抛光料：6um, 3um, 1um 
50张抛光布：Φ200 mm 
同时可以使用Φ150至Φ250 mm的抛光盘