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PIPES指数：1.0 用户：0 新闻：0 应用：0
仪器介绍: 欧洲专业的制造商，拥有20多年丰富的经验在：蒸发设备、溅射设备、等离子体增强化学气相沉积系统PECVD、等离子体刻蚀系统、感应耦合等离子体刻蚀系统、微波打胶机(去胶机)、反应等离子体灰化设备、微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD等； 该微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD系统，主要用于单晶、多晶金刚石薄膜的生长！
1.本底真空< 10-7 Torr 2.成膜均匀性：± 5% 3.zei大功率密度：80 W/cm3 4.微波电源：2.45GHZ，6kw （连续或者脉冲） 5.沉积速率：15 μm/h
1. 控制系统：计算机手动、半自动或者全自动控制；
2.腔体压力调节；
3.气体喷淋沉积方式；
4.可制备单晶、多晶金刚石薄膜，类金刚石薄膜DLC；
主要应用：
Tribologic coatings Optical windows Substrates Power electronics Heat dissipation Sensors
Orion Star A 便携式高端溶解氧测量仪
岩心/土壤高光谱成像仪
奥豪斯 SC310 pH电极
透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口
激光单粒子效应模拟测量系统
超低温高效节能冰箱U410-HEF, U570-HEF, C660-HEF & U725-G
856电导率仪
MXX-5分析天平
产品描述
