随着半导体制造工艺朝着高密度，高集成方向的迅速发展，科技研发人员将对RTP(Rapid Thermal Processing)的加热技术更加关注。MILA-5000系列红外线加热炉具有快速加热和快速冷却的功能，无环境污染等特长，并同高精的温度控制器组合为一体。对于记忆材料和强导电体相关的RTP研究工作，MILA-5000红外线加热炉将提供更广泛的测量领域。

●用途
强诱导体薄膜的结晶化退火
注入离子后的扩散退火
半导体材料的烧成与退火条件研究
玻璃基板的均热退火
热循环试验与热冲击试验
升温脱离试验与触媒试验

●技术指标
型号                   高温型                                                       均热型
程序操作型       MILA5000-P-N                                         MILA5000-P-F
温度范围           RT～1200℃(MAX)                                   RT～800℃(MAX)
试样尺寸          20mm×20mm×2.0mmt(MAX)                20mm×20mm×2.0mmt(MAX)
温度传感器       K热电偶                                                      K热电偶
电源容量           AC200V / 4KVA                                          AC200V / 4KVA

温度升温速度快，精度高

●特长
50/sec的快速加温
式样在保护管内加热，所以气氛可选择真空，各种气体，流动气体
式样温度与程序设定温度同时显示，可完成精密的温度控制