产品描述
CIF推出全新一代CPC系列桌面型、可中试生产、模拟生产条件的等离子体清洗设备，几乎具备等离子体清洗设备所有的功能。具有较大的腔体尺寸和样品处理面积，使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效，特别适合于大学，科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
产品特点：
可模拟生产条件，便于小批量中试生产。
桌面型，占用空间小。
性能稳定，操作简便，使用成本低，易于维护，性价比高。
有效处理面积大，可处理8寸硅片去胶等应用。
可处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品，进行清洗和改性。
技术参数
型号 | CPC-10 | CPC-10plus |
舱体尺寸 | D300xΦ215mm | D300xΦ215mm |
舱体容积 | 10.8L | 10.8L |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
射频功率 | 10-300W可调 | 10-150W可调 |
气体控制 | 双浮子流量计（标配） | |
最大处理尺寸 | L215xW300mm | |
产品尺寸 | L555xW480xH525mm | |
包装尺寸 | L680xW605xH790mm | |
时间设定 | 1-99分59秒 | |
真空泵 | 抽速约8m3/h | |
气体稳定时间 | 1分钟 | |
真空度 | 100pa以内 | |
电 源 | AC220V 50-60Hz | |
