原理： 
ETD-100AF 是高真空热蒸发式小型镀膜机。采用电阻式蒸发原理，利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料，使其在高真空下蒸发，沉积在被镀样品上以获得zei佳镀膜效果。 

适用范围：
电子显微镜样品制备和清洁光栏，以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。

配置和参数：

*  真空室： 直径230mm，高度：280mm
*  靶材料： 碳、金等。
*  电极(两对)： 一对用于钼舟或钨丝栏，一对蒸碳。
*  zei大电流： 100A
*  zei大电压： 10V
*  极限真空： 1×10 Pa
*  工作真空： 2×10 Pa
*  加热功率： 1000W 
*  机械泵： 4 升/每秒，AC 220V/50Hz
*  复合分子泵： 600升/秒，AC 220V/50Hz(风冷)

特点： 

使用了大抽速、高压缩比、自然风冷却复合分子泵，确保喷镀时能够迅速抽掉蒸发源和样品放出的气体；正常情况下喷镀室内极少有油蒸气回流，非常清洁。 

可蒸发的材料：
碳、金等。