快速，易于使用，基于光谱反射,为高性价比薄膜或涂层测厚分析系统

广泛应用于：

半导体制造 (PR, Oxide, Nitride..)
液晶显示器(ITO, PR, Cell gap…..)
医学、生物薄膜或材料
印刷油墨，矿物学，颜料，碳粉
光学薄膜 TiO2, SiO2, Ta2O5…..
半导体化合物
功能薄膜在MEMS /微光机电系统 ?
非晶，纳米及结晶硅
太阳能光伏材料涂层

产品规格：
波长范围： 250到1100 nm
光斑尺寸： 500微米至5毫米
样品尺寸： 200x200mm
基板尺寸：zei高达50毫米的厚度
测量厚度范围： 2纳米至50微米
测量时间： 2毫秒zei低
精度：优于0.5 ％
重复性 ：<1 Ǻ

系统配置:
•型号：SR100R
•探测器:2048像素CCD
•光源:大功率氘和卤素光源
•光传递方式：光纤
•载物台：黑色铝合金,可方便调节样品的高度，200mmx200mm大小
•通讯：与计算机的USB
•测量类型：薄膜厚度，反射光谱，折射率
•软件：TFProbe 2.2
•电源：110 - 240伏交流电/ 50 - 60赫兹
•保修：一年主机及配件

易于安装和容易操作的软件视窗
先进的光学设计，zei佳的系统性能
阵列探测器系统，以确保快速测量
测量薄膜厚度和折射率，zei高达5层
可以收集反射，透射和吸收光谱，以毫秒为单位
能够用于实时或在线厚度，折射率监测
系统具有全面的光学常数数据库
先进的TFProbe软件允许用户使用NK表，有效快速的分析测试样品。
可升级到中型（ Microspectrophotometer ）系统，开关磁阻电机绘图系统，多通道测试系统，
直接测量的图案或功能结构
适用于许多不同类型的衬底上不同厚度测量
各种配件供特殊配置，如运行测量的曲面
二维和三维图形输出和良好的用户数据处理界面