高精度，高性价比， 操作简单方便，覆盖从紫外 可见光 近红外的光谱测试范围，更有效的实现对薄膜样品的全面分析

广泛应用于：

半导体制造 (PR, Oxide, Nitride..)
液晶显示器(ITO, PR, Cell gap…..)
医学、生物薄膜或材料
印刷油墨，矿物学，颜料，碳粉
光学薄膜 TiO2, SiO2, Ta2O5…..
半导体化合物
功能薄膜在MEMS /微光机电系统 ?
非晶，纳米及结晶硅
太阳能光伏材料涂层

规格：
•波长范围：250至1700纳米
•光斑尺寸：500微米至5毫米
•样品尺寸：200x200mm
•基板：可测量达50毫米厚
•可测量厚度范围：2纳米至150微米
•测量时间：2毫秒zei低
•精度：优于0.5％
•重复性：“1 Ǻ

System Configuration:
• Model: SR500R
• Dual Detectors: CCD Array for UV-Vis and InGaAs Detector Array for Near-Infrared (NIR)
• Light Source: Combined Deuterium and Halogen
• Light Delivery: Fiber Optics
• Stage: Black Anodized Aluminum Alloy with Easy Adjustment for sample height, 200x200mm size
• Software: TFProbe 2.2
• Communication: USB
• Measurement Type: Film thickness, reflection spectrum, refractive index
• Computer needed: P3 above with minimum 50 MB space
• Power: 110– 240 VAC /50-60Hz, 1.5 A

•容易设置
•容易操作的软件与窗口
•先进的光学设计，zei佳的系统性能
•阵列探测器，以确保快速测量
•测量薄膜厚度和折射率,zei多可测5层
•以毫秒为单位收集反射光谱，传输和吸收光谱
•能够实时或在线测量薄膜的厚度或折射率
•系统配备了光学常数的综合数据库
•先进TFProbe软件允许用户对于每个薄膜分析,选择使用NK模式，或EMA模式。
•升级至中型（显微分光光度计）系统，开关磁阻电机定位系统，多通道系统，
•可以直接获得样品的图象或组织结构
•适用于许多不同类型的基板不同厚度,
•各种配件提供特殊配置，如如运行曲面曲线测量
•2维或3维的图像输出，友好的用户数据界面管理；