产品简介：

• 基于视窗结构的软件，很容易操作
• 先进的深紫外光学及坚固耐用的抗震设计，以确保系统能发挥出zei佳的性能及zei长的正常运行时间
• 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量
• 低价格，便携式及灵巧的操作台面设计
• 在很小的尺寸范围内，zei多可测量多达5层的薄膜厚度及折射率
• 在毫秒的时间内，可以获得反射率、传输率和吸收光谱等一些参数
• 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率
• 系统配备大量的光学常数数据及数据库
• 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析
• 系统集合了可视化、光谱测量、仿真、薄膜厚度测量等功能于一体
• 能够应用于不同类型、不同厚度(zei厚可测200mm)的基片测量
• 使用深紫外光测量的薄膜厚度zei低可至20 Ǻ
• 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面
• 先进的成像软件可用于诸如角度、距离、面积、粒子计数等尺寸测量
• 各种不同的选配件可满足客户各种特殊的应用

系统配置：

•  型号：MSP100RTM
• 探测器：2048像素的CCD阵列
• 光源：高功率的深紫外－可见光光源
• 光传送方式：光纤 
• 自动的台架平台：特殊处理的铝合金操作平台，能够在5”×3”的距离上移动，并且有着1μm的分辨率，程序控制
• 物镜有着长焦点距离:4×，10×，15×(DUV)，50×
• 通讯接口：USB的通讯接口与计算机相连
• 测量类型：反射/透射光谱、薄膜厚度/反射光谱和特性参数
• 计算机硬件：英特儿酷睿2双核处理器，200G硬盘、DVD刻录机，19”LCD显示器
• 电源：110–240V AC/50-60Hz，3A
• 尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面设置)
• 重量：120磅总重
• 保修：一年的整机及零备件保修

基本参数：

•  波长范围：250nm到1000 nm
• 波长分辨率: 1nm
• 光斑尺寸：100µm (4x), 40µm (10x), 30µm (15x), 8µm (50x)
• 基片尺寸：zei多可至20mm厚
• 测量厚度范围: 20Å 到25 µm
• 测量时间：zei快2毫秒
• 精确度*：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）
• 重复性误差*：小于2 Ǻ

应用领域：

• 半导体制造（PR，Oxide, Nitride..)
• 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）
• 医学，生物薄膜及材料领域等
• 油墨，矿物学，颜料，调色剂等
• 医药及医药中间设备等
• 光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
• 半导体化合物
• 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
• 非晶体，纳米材料和结晶硅

产品可选项：

• 波长可扩展到远深紫外光或者近红外光范围
• 高功率的深紫外光用于小斑点测量
• 可根据客户的特殊需求来定制
• 在动态实验研究时，可根据需要对平台进行加热或致冷
• 可选择的平台尺寸zei多可测量300mm大小尺寸的样品
• 更高的波长范围的分辨率可低至0.1nm
• 各种滤光片可供各种特殊的需求
• 可添加应用于荧光测量的附件
• 可添加用于拉曼应用的附件
• 可添加用于偏光应用的附件