洁净厌氧高温气氛炉

DTN430C/630C/450C/650C

洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉，主要应用于固化半导体晶圆等。

特点

• 最高工作温度360℃和500℃、洁净度100 级、氧浓度低于20ppm，主要应用于固化半导体晶圆（光刻胶PI、PBO 固化）、玻璃基板烘烤、高精度退火处理等。

• 采用耐热高性能高效过滤器，箱内洁净度始终保持在100 级，可在洁净的环境下进行高温烘烤。

• 高气密性的压力箱构造，氧浓度到达时间短，N2 消耗量极低。

• 通过磁密封保持高气密性，并采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。

• 可实现快速升温和降温，升降温速率可调节。

• 标准装备有废液回收装置，对气体进行冷却回收。

安全性

• 拥有门检测开关、温度过升防止器、氧浓度异常、氮气压力检

• 测、氮气流量检测、冷却水流量检测、漏水传感器、过电流漏

• 电漏电保护开关等安装装置。