欧洲先进的无掩膜激光直写系统，zei小线宽可达 100nm，为MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相关微纳米结构领域的科研工作者，提供强有力的手段！

加工线宽：zei小可达 100nm；

多种曝光模式：
        2D曝光模式：构建二维纳米结构；
        3D曝光模式：可加工三维纳米结构；

压电驱动平台配合精密自动驱动平台，具有更高的水平定位分辨率；

系统自动聚焦、纠斜、对准；

多功能试样夹具；
快速样品样品更换：<1秒；

专业图形设计软件：支持导入CAD设计软件，2D和3D随意简单设计；