应用：
-Focusing the high power pulsed laser beam to strike a target
-Oxide compound deposition in oxygen atmosphere 
-铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积

 
腔形状 : 球面型
样品尺寸 : ~ 2inch, 单片 wafer 
加热温度 : Max. 850∩ 
靶数量 : 4ea 
吧旋转& 转数可选
Ar coated laser window (248nm, UV grade fused silica) 
极限压力 :  5*10-6Torr
真空泵: TMP + 旋转泵
过程控制 : 手动