应用领域：

半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
◦ 电解质: SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
◦ 平板行业：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, Alq, ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
◦ 光学涂层：: 减反射膜, Color Filters...
◦ 太阳能电池 Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
◦ 聚合物: PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
◦ Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk...

波长范围：350~ 840 nm

膜厚范围：10nm~30um

测试速度： < 1秒/点

参数分析：厚度，R，N，K，表面粗糙。

—  一台仪器上可增加多种检测头，如椭偏仪，四探针面电阻，接触角分析仪，三维共聚焦显微镜等

—基台随客户需要定制级别：如洁净级，一般等

—基台可随样品大小订制

—软件内容可随客户需要编辑

—可靠性高，稳定性好