膜厚测量仪FE-300
价格:面议

膜厚测量仪FE-300

产品属性

  • 品牌大塚电子
  • 产地日本
  • 型号FE-300
  • 关注度390
  • 信息完整度
  • 产地亚洲
  • 供应商性质一般经销商
  • 产地类别进口
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产品描述

膜厚量测仪FE-300的特点

  • 测试范围涵盖薄膜到厚膜

  • 基于绝对反射率光谱分析膜厚

  • 小型・低价,精度高

  • 无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手

  • 外观新颖,操作性提高

  • 非线性*小二乘法,实现光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)

对应膜种

○ 多层膜                        ○ 折射率倾斜

○ 非干涉膜                    ○ 超晶格结构

用途

○ 光学薄膜(ARfilm、ITO等)

○ FPD相关(ITO、PI、PC、CF等)

测量项目

多层膜厚解析

绝对反射率测量

光学常数解析(n:折射率k:消光系数)

测量实例

式样

型号  FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1
本体 标准型 薄膜型 厚膜型 厚膜型(高分辨率)
样品尺寸 *大 8 寸晶圆( 厚度 5 mm )
测量膜厚范围(nd值) 100 nm ~ 40 μm 10 nm ~ 20 μm 3 μm ~ 300 μm 15 μm ~ 1.5 mm
测量波长范围 450 nm ~ 780 nm 300 nm ~ 800 nm 900 nm ~ 1600 nm 1470 nm ~ 1600 nm
测量精度 ± 0.2 nm 以内 *2 ± 0.2 nm 以内 *2 - -
重复精度 0.1 nm 以内 *3 0.1 nm 以内 *3 - -
测量时间 0.1 s ~ 10 s 以内
光斑直径 约 φ 3 mm
光源 卤素灯 氙灯与卤素灯 卤素灯 卤素灯
通讯接口 USB
尺寸,重量 280(W) × 570(D) × 350(H) mm、 约 24 kg
软件功能
标准 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析
选配功能 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析

*1  细规格请咨询 

*2  相对于VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的膜厚保证书记载的测量保证值范围

*3  VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的同一点反复测量时的扩张不确定度(包括因子2.1)


北京先锋泰坦科技有限公司

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