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磁控溅射镀膜机 Sputter
上海伯东代理超高真空磁控溅射镀膜机. 真空度最高 5E-10 Torr, 特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜, 金属与绝缘材料. 使用德国 Pfeiffer 分子泵和美国 KRI 离子源.
型号: 磁控溅射镀膜机 Sputter 16 |
型号: 磁控溅射镀膜机 Sputter 24 Sputter 24 与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜. |
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