纳米压印（NIL，Nano Imprint Lithography）是一种纳米微制造技术，利用该技术，可以将由电子束直写（e-Beam Lithiography）或聚焦离子束（FIB）技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到基底材质上。纳米压印技术非常重要，产生的压力必须均匀、统一，Obduat的气体软压印技术非常巧妙的解决了这一问题。纳米压印技术应用领域非常宽广，比较典型的应用包括：生物微流道，光子晶体、OLED（有机电致发光二极管）、有机薄膜晶体管（OTFTs）、亚波长光学元器件等的纳米微制造等。目前国内外有几十家用户采用了Obducat的压印设备及其技术。国内北京大学的刘忠范老师，吉林大学的迟力峰老师、华中科技大学刘文老师等已经购置了相关的设备进行相关的研究工作。

纳米压印（NIL，Nano Imprint Lithography）是一种纳米微制造技术，利用该技术，可以将由电子束直写（e-Beam Lithiography）或聚焦离子束（FIB）技术制备的模具的纳米结构通过“印章”的办法转移到基底材质上。纳米压印技术非常重要，产生的压力必须均匀、统一，Obduat的气体软压印技术非常巧妙的解决了这一问题。纳米压印技术应用领域非常宽广，比较典型的应用包括：生物微流道，光子晶体、OLED（有机电致发光二极管）、有机薄膜晶体管（OTFTs）、亚波长光学元器件等的纳米微制造等。目前国内外已有几十家著名企业、科研院校、研究中心使用Obducat的压印技术和设备。国内北京大学的刘忠范老师，吉林大学的迟力峰老师、华中科技大学刘文老师等已经购置了该设备进行相关的研究工作。
压印温度范围：室温到250摄氏度，300摄氏度配件可选
冷却：空气冷却，zei大压力：70Bar
紫外光源：波长范围250nm－450nm
功率（样品处）：40－100mW/cm2
自动脱模
软件程序自动控制升温过程以及压力大小，自动控制紫外曝光过程

采用气体软压技术，可以得到很好的压印均一性与稳定性

可分别独立采用热压、紫外聚合或者热压紫外聚合联合使用

Obducat为客户加工定制压印模板