描述：
QHC系列是由红外线金面反射炉，高精度数字温度控制器，石英加热室所构成的高速加热及冷却装置
 
用途：
 
用气氛热处理研究各种基础材料
高温气体的骤冷热处理。
热循环试验，热冲击试验
半导体材料的烧成，退火条件研究
2英寸硅片的退火条件研究
控制气氛的氧气量对超导材料的退火条件研究
 
特长：
具有宽域的温度加热范围，多种加热方式。
标准的气体冷却控制系统，在温度加热（保持）后，可容易的控制通入的骤冷及冷却气体。  使用选择部件真空排气装置，试样可在真空，各种气体，流动气体中加温。
 
技术指标：　

型号 VH,QH(C)-E410系列 VH,QH(C)-E610系列 VH,QH(C)-E616系列 加热方式 红外线金面反射炉 红外线金面反射炉 红外线金面反射炉 zei高到达温度 1400 ℃ 1200 ℃ 1200 ℃ 常用zei高温度 1000 ℃ 1000 ℃ 1000 ℃ 加热区 φ15mm×100mmL φ50mm×100mmL φ50mm×150mmL 均热区 φ10mm×80mmL φ15mm×80mmL φ40mm×120mmL 冷却方式 试样室内石英喷嘴式 加热室 石英φ50mm 石英φ98mm 石英φ98mm 试样保护管 石英 石英 石英 气体控制器 标准装置 标准装置 标准装置 温度控制器 TPC系列 TPC系列 TPC系列 电源容量 AC200V1φ10KVA AC100V / 10A AC200V1φ15KVA AC100V / 10A AC200V1φ20KVA AC100V / 10A 所要冷却水 8L／min （0．2MPa）以上 10L／min （0．2MPa）以上 12L／min （0．2MPa）以上