RISUN氮化硅薄膜窗口---X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用

产品介绍： 
    氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。

氮化硅薄膜的性质：
1. 硬度大，致密性好，表面光滑，机械强度大，稳定性好；
2. 对软X射线有很好的穿透性，对可见光是透明的。

RISUN提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：
外框尺寸 (4种标准规格):
• 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)
• 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm)
• 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形)
边框厚度： 200µm、381µm、525µm。
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm
我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。
本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。

技术指标：

透光度：
对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线(例如碳边吸收谱)，100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。

真空适用性：
真空适用性数据如下： 　
薄膜厚度 窗口面积 压力差
≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm
≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm
≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm

表面平整度：
氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。

温度特性：
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

应用简介和优点：
1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。
2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。
3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。
4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。