• JBX-6300FS 电子束光刻系统

• JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。

产品特点：

• JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。

• 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。

• 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特的ＤＦ/DS系统能对电子束偏转产生的畸变进行校正，具有球差和象散自动补偿功能，可在场边角、场边界处进行高精度地描画。

• 该系统采用了19位DAC和样品台控制精度为0.6nm的激光干渉仪，实现了业界zei高水准的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）。　可用于位置精度要求很高的光子器件、通信设备等领域的研究和开发。

• 本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。

• zei大扫描速度高达50MHz，再加上zei大程度地抑制了机器的准备操作时间，因此缩短了描画时间，到描画开始为止的作业非常简单，聚焦也能够自动进行，因而能提高总产出量。

• 使用自动装载系统（选配），zei多可以连续描画10个样品架。（例：可连续描画10张6英寸的晶圆片或者40张2英寸的晶圆片等。※连续描画时，需要和材料数相应的样品架。）目前在日本国内外已有这样的生产线。

• 利用微间距控制程序（场尺寸精调程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。

产品规格：