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SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E可用于High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺
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SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E可用于High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺
GES5E全光谱椭偏仪基于椭圆偏振测试技术,采用先进的旋转补偿器,结合光纤专li技术将偏振光信号传输至分段光谱优化的高分辨率单色仪或阵列式多通道摄谱仪,
PIPES指数:7用户:应用:

型号型号:SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E

品牌品牌:泰思肯

产地产地:匈牙利

北京亚科晨旭科技有限公司

青铜会员 青铜会员
核心参数
产地: 欧洲
供应商性质: 总代理
产地类别: 进口
价格范围: 10万-30万
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产品描述

SEMILAB-全光谱椭偏仪GES5E
(Spectroscopic Ellipsometer)

产品特点

业界第yi家光谱型椭偏仪测试设备厂商

业界标准测试机构定标设备,参与发布中华人民共和国椭圆偏振测试技术标准

非接触、无损测试所测样品无损伤的测量

业界最宽测试光谱范围,选配135nm-25um,并可自动切换快速探测模式和高精度探测模式

测试功能延展性强,并支持后续升级服务

定期免费升级SOPRA材料数据库

开放光学模型拟合分析过程,方便用户优化测试菜单

主要应用

光伏行业:晶硅电池减反膜、薄膜电池透明导电膜、非晶硅微晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、有机电池、染剂敏感太阳能电池

半导体行业:High-K、Low-K、金属、光刻工艺、半导体镀膜工艺、外延工艺

平板显示行业:TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色滤光片

光电行业:光波导、减反膜、III-V族器件、MEMS、溶胶凝胶

主要技术指标

测试速度:<1 sec (快速测试模式)
               <120 sec (高分辨率测试模式)

测量光谱分辨率:<0.5nm@633nm (高分辨率测试模式)
                        <0.8nm@633nm (快速测试模式)

最大样品尺寸: 300mm

厚度测量范围:0.01nm-50um

厚度测试精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si

折射率测试精度:0.002 @120nm SiO2 on Si


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