使用NexION 5000 ICP-MS分析高纯度硅基质中的痕量污染物 Application Note (977083_CHN_01)

应用领域:电子/电器/半导体

检测样品:高纯度硅基质

检测项目:分析高纯度硅基质中的痕量污染物

方案摘要

使用NexION 5000 ICP-MS分析高纯度硅基质中的痕量污染物 Application Note (977083_CHN_01)

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