1.背景介绍

上海市某半导体厂，专注于研发和制造业应用的晶圆。 晶圆生产工艺复杂，其中蚀刻序使用氢氟酸溶液进行蚀刻 、并用高纯水清洗， 在这个工序中产生了大量的高浓度含氟废水，含氟废水经过加药 、混凝沉淀处理后达标排放 。该半导体厂 在总排口处安装了一台 FBM-160氟离子 浓度 分析仪。 根据 国标 《污水综合排 放标准 》（GB8978-1996）以及上海市环境保护局发布的地方标准

《半导体行业污染物排放标准》（DB31），该半导体厂执行三级标准，其总排口的半导体厂执行三级标准，其总排口的氟限值为 20 mg/L。

 如想了解更多详细内容，请您下载后查看！