N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP)，化学分子式为 C5 H9 NO，是一种化学性质稳定的水 溶性有机溶剂，广泛应用于制药、石化、高分子科学，特别是半导体行业中。 电子级 NMP 通常被半导体生产商用作晶片清洗剂和光刻胶剥离剂，以及用作和 晶片表面直接接触的溶剂。这就要求 NMP 中金属（和非金属）污染物的含量 尽可能地低。ICP-MS 是测定半导体工艺化学品中痕量金属杂质的首选技术。但 对 ICP-MS 技术而言，测定 NMP 中的非金属杂质如硫、磷、硅和氯却是个挑 战。这些元素较低的电离效率大大降低了分析信号的强度，与此同时，由 NMP 基质中的 N、O 和 C 元素形成的多原子离子造成的高背景信号（计为背景等效 浓度，BEC）使这一痕量检测更加雪上加霜。电感耦合等离子体串联质谱仪的高灵敏度和强大的消干扰能力使它特别适合于应对这一应用的挑战。本应用介绍了 Agilent 8800 电感耦合等离子体串联质谱仪 (ICP-MS/MS)在 MS/MS 模式下，测定 NMP 中的 S、P、Si 和 Cl。