有机溶剂中痕量元素的分析对 ICP-MS 来说存在着一些挑战，其中许多难题借助 安捷伦的 7700 系列四极杆 ICP-MS 系统的先进技术如 Peltier 冷却雾室，快速 变频阻抗匹配固态 RF 发生器以及八极杆碰撞反应池 (ORS3 ) 已得到了不同程度的 解决。然而，即便有了这些先进技术，有机溶剂中某些元素的分析仍然十分困 难，尤其是硅、磷和硫。这三个元素都会受到来自碳、氮和氧的多原子离子的 严重干扰，而这些干扰是常规 ICP-MS 很难完全消除的。比如 CO、COH、N2 和 NO 对 Si 28、29 和 30 的干扰，COH、NOH、N2 H、NO 和 CO 对 P 31 的 干扰，以及 O2 、NO、NOH 和 NOH2 对 S 32 和 34 的干扰。此外，磷和硫的第 一电离能 (IP) 很高，分别为 10.5 eV 和 10.4 eV，因此灵敏度比其它一般元素要 差（一般元素的 IP 大约为 6-8 eV）。