霍尔离子源应用于光学镀膜机加装, 实现预清洁 PC, 辅助镀膜 IBAD光学镀膜 optics coating, 在现代生产被广泛应用, 例如玻璃镀膜, 镜片镀膜, 显微镜镜片镀膜, 装饰灯罩镀膜都是必不可少的生产工艺. 蒸发镀膜作为一种常见的制程, 比较容易出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落的现象, 使用美国 KRI考夫曼离子源可以有效解决此类问题, 因此美国 KRI 考夫曼霍尔型离子源广泛加装在各类蒸发镀膜机中离子源辅助镀膜客户案例一: 厦门某光学镀膜企业, 该企业使用日本 Shincron 真空镀膜机, 镀膜腔体约 2 m3  , 镀膜机加装霍尔离子源 EH 4200 起到预清洁 PC及辅助镀膜 IBAD 的作用.离子源辅助镀膜具体操作, 霍尔离子源预清洁 PC +辅助镀膜 IBAD : 由于膜层表面很光滑,在镀膜时会产生膜层脱落现象, 预清洁就是将膜层表面用大的离子如 Ar 打击表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加装KRI霍尔离子源起到预清洁作用, 在预清洁后开启离子源辅助镀膜 IBAD, 膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。工作示意图如下, KRI离子源覆盖面使用专业测膜记号笔, 可以明显看出加装 KRI 离子源前后有很大的不同 

 

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