电子束镀膜机加装霍尔离子源上海伯东客户某生产光学镜片公司采购美国 KRI 考夫曼公司大尺寸霍尔离子源 EH 2000 加装于电子束镀膜机用于望远镜用金属零部件 IBAD 辅助镀膜!上海伯东电子束镀膜机加装离子源典型案例: 根据客户 Φ1.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh2000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器1. 设备: Φ1.2m 电子束镀膜机.2. 基材:望远镜用零部件, 镀铝 Al, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜3. 加装霍尔离子源: eh2000HC, 通氧气3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).4. 离子源应用: 望远镜用零部件镀金属膜腔体内中的霍尔离子源 eh2000HC                                   通氧气 O2               霍尔离子源 eh2000HC 自动控制器 

美国 KRI 霍尔离子源 eh2000HC 主要技术规格尺寸: 直径= 5.7“ 高= 4”放电电压 / 电流: 50-250V / 15A可通气体: Ar, O2, N2,H2离子束发散角度：> 45° (hwhm)水冷

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

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