涡轮分子泵应用于磁控溅射系统磁控溅射  Megnetron Sputtering 是物理气相沉积 Physical Vapor Deposition, 简称 PVD 的一种, 可用于金属及氧化物薄膜的制备, 具有设备简单, 易于控制, 镀膜面积大和附着力强等优点, 磁控溅射系统对真空要求较高, 真空度一般要求在 5*10-7 至 10-10 mbar, 因此需要配置性能稳定的分子泵.上海伯东涡轮分子泵应用于磁控溅射镀膜机客户案例: 某研究所磁控溅射系统用于光刻胶片上溅金属铬, 铜, 钛. 其中材料生长腔工作真空度要求 < 10-7 hPa, 能做到4英寸片, 3靶位, 可实现编程镀膜. 材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高, 经过伯东推荐加装普发 Pfeiffer 分子泵 HiPace 700.超过真空系统配置:

	涡轮分子泵 HiPace 700接口: DN 160 CF-F极限真空: < 5X10-10 mbar氮气压缩比: > 1X1011
	全量程真空规 PKR 251接口: DN40 CF-F测量范围: 5E-9至 1000 hpa
	HVA 超过真空闸阀 11000口径: DN 100 CF-F极限真空: 1x10-10 mbar手动操作

Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 2700 L/S, 转速最高 90,000 rpm, 极限真空最大 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型应用 >>

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