涡轮分子泵应用于  OLED 镀膜机上海伯东某专业从事 OLED 设备制造商, 经过伯东推荐该设备真空系统配置 Pfeiffer 分子泵  HiPace 700 , 双级旋片泵 DUO 35 和美国 HVA 插板阀, 成功替换此设备原先使用的日本低温泵. 此款 OLED 设备适用于有机半导体照明客户.OLED 设备基本技术要求如下:1.  腔体体积: 约 150 L 左右2.  极限真空度: 1 x 10-7 mbar3.  30 分钟 – 1 小时内达到 5 x 10-5 mbar4.  Gas: Ar, O2真空系统配置

	涡轮分子泵 HiPace 700进气口: DN 160 CF-F氮气抽速: 685 l/s氮气压缩比: > 1X1011极限真空: 5X10-10 mbar半导体 Semi S2 及 IP 54 防护等级
	双级旋片泵 DUO 35进气口: DN 40 ISO-KF氮气抽速: 32 m3/h极限真空: 3 X 10-3
	全量程真空计 PKR 251进气口:KF 25测量范围: 5E-9至 1000精度: ±30%
	HVA 气动插板阀进气口: DN 160 CF-F极限真空: 1x10-10 mbar供电: 24V DC

此类  OLED 镀膜机, 用加热使材料蒸发的方法, 在衬底上沉积各种化合物, 混合物单层或多层膜. 主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验, 上海伯东 Pfeiffer HiPace 系列分子泵搭配 DuoLine 双级旋片泵是其理想的选择! 

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