• A4 系列干泵

• HiPace 2800 IT 涡轮分子泵

• 磁悬浮轴承涡轮泵分子泵 ATH-M 系列

?阿斯拉尔，德国，2016 年 1 月 18 日。全球领先的真空技术供应商普发真空将参加 1 月 27日至 29 日在首尔举办的韩国半导体展览会 (Semicon Korea) 以及 3 月 15 日至 17 日在上海举办的中国半导体展览会 (Semicon China)。展位参观者可以与来自普发真空的专家们就创新的真空解决方案进行交流讨论。 “我们很高兴能在韩国半导体展览会 (Semicon Korea) 和中国半导体展览会 (Semicon China)上介绍重要的全新的真空解决方案。在日益变化的竞争环境中，根基扎实的普发真空处于最佳的状况，以便能够作为长期及可靠的真空技术全系列供应商行动起来，为全球的所有客户提供服务”，普发真空半导体和真空镀膜事业部总经理 Eric Taberlet如是说。

 

现场展示产品

A4 系列干泵无油多级罗茨泵 A4 系列具有 100 至 2300 m3/h 的抽吸能力。这种高能效和可靠的泵非常适合应用于半导体和真空镀膜行业要求严苛的工艺过程中。例如，得益于耐腐蚀材料以及高气流量，该系列泵非常适合在 CVD 工艺过程中应用.

HiPace 2800 IT 涡轮分子泵HiPace 2800 IT 涡轮分子泵是普发真空产品中一款专门适合应用于离子注入的涡轮分子泵。涡轮分子泵成熟的转子设计保证了对小分子气体最佳的抽吸能力。由此确保了主要产生氢气的离子注入工艺过程中的极好的匹配。凭借 2,750 l/s 的氢气抽吸能力，新型 HiPace 2800 IT 涡轮分子泵成为同级别产品中领先的涡轮分子泵。智能温控管理系统防止泵系统中的冷凝和沉积，并允许单独的温度设置，以提供最佳的工艺支持。特殊涂层处理的转子确保其能抵抗离子注入工艺中产生的腐蚀性介质。得益于复合轴承的设计，前级真空侧的陶瓷球轴承与高真空侧的永磁径向轴承的组合，HiPace 系列涡轮分子泵具有着极为坚固的轴承结构。这些特性使得我们的泵使用寿命和最大限度的得以提高。

磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 MATH-M 涡轮泵可以达到在未加热应用中超过 5000 sccm 的氮气的气流量。此外，它们还提供1,500 sccm 的氩气的高气流量以及在腐蚀应用中 65 °C 的泵运行温度。凭借最高达 85 °C 的温度，该类泵可投入使用于副产品沉积十分关键的高度腐蚀性应用或敏感的工艺过程中。它们配备了集成驱动电子装置，因而占地面积小，并且即插即用，易于安装。带有 DN 320 法兰的型号的总高度不超过 400 mm。得益于新的电子装置，该类泵可在 8 分钟内启动和停止。主动式磁轴承确保泵的无磨损运转并通过自动不平衡补偿来确保泵的低振动运转。它们无需维护，并且不需要润滑剂润滑。从而保证了转子的持续稳定性以及运行的可靠性。而且，新型 ATHM泵还具备额定转速下低能耗和非常少的冷却水消耗量（1°l/min）的特征。

领域：其他