涡轮分子泵应用于 ITO 镀膜生产线ITO Indium Tin Oxide, 銦錫氧化物, 结晶具有体心立方铁锰矿结构, 是一种重掺杂, 高简并的宽禁带型半导体材料, 具有优良的导电性, 可见光透过率以及红外反射率, 而且还具有高硬度, 耐磨性, 耐化学腐蚀特性. 因此广泛应用于平板显示器 FPD 和太阳能电池. 通常制备 ITO 薄膜的方法有溶胶凝胶法, 磁控溅射法, 脉总激光沉积和电子束蒸发等.ITO 镀膜过程必须在干净清洁的真空系统中上海伯东普发 Pfeiffer HiPace 涡轮分子泵清洁无油, 最大极限真空度可达 10-11mbar, 转子速率可达 90000rpm, 广泛应用于ITO 镀膜生产线.上海伯东 ITO 镀膜生产线客户案例: 深圳某企业为全球最热门的苹果公司提供手机显示屏, Pfeiffer 分子泵因其优秀性能应用在 ITO 生产线中,上海伯东作为德国普发 Pfeiffer 真空设备中国区销售公司, 提供完善的售前,售后服务并得到客户一致的好评.Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 2700 L/S, 转速最高 90,000 rpm, 极限真空最大 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型应用 >>

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