E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜

应用领域:电子/电器/半导体

资料类型:其他资料

方案摘要

NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统:NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,通过主腔放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。

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