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ICP-MS各部分功能和原理——真空系统

2018.3.16
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丁齐

致力于为分析测试行业奉献终身

  真空系统


ICPMS主要用来检测物种的痕量元素,空气中的灰尘含有大量的各种元素,因此在仪器中真空的要求是很高的。从进样系统到炬管,仪器一直是在常压下工作的,在仪器点火之前,氩气可以驱除管路中的空气。当离子产生后,对这些离子的聚焦、传输和选择分析就必须要求良好的真空系统,以免在过程中的粘污。仪器为了达到从常压向真空系统的过渡,提供了三级真空系统,来逐步的达到很高的真空度。真空系统如下图7所示:

图片.png

X7ICPMS有一个机械泵和一个分子涡流泵,机械泵用于抽低真空,分子泵用于抽高真空。机械泵直接与expansion chamber(扩张室,因为离子超声速射流)相连接,分子泵工作端与分析室2(主要是四极杆和检测器)相连结,出口端和机械泵相连。在扩张室和分析室1中间有一个slide valve,扩张室和机械泵中间连有expansion valve,分子泵和机械泵工作端连有backing valve。三级真空系统保证了仪器从大气到低真空再到高真空的过渡,而三个阀门保证了仪器在工作状态和待机状态的稳定和两个状态之间的过渡。

仪器的三级真空系统的气压


接口部分

分析室1

分析室2

气压(mbar

2

105

6×107

 

仪器的三个状态与阀门的关系表

状态

Backing vlove

Expansion valve

Slide valve

Off

Off

off

off


Vacuum ready

ON

Off

Off

Ready->operate

Off

off

off

Off

On

off

On

On

off


Operate

On

On

On


->ready

on

on

off

on

off

off


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