主要特点：
UIS无限远校正光学系统，提供出色的图像质量；
人机工程学的进一步改善，使操作更为舒适；
多种高度功能化的附件，能满足各种检验需要。
用途：
针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为工业显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。
优点：
配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜、图像清晰，衬度好。
优势：
紧凑的Y型匀设计，稳定且占地小；
新的光路设计，光效率更高，采用长寿命卤素光源；
反射专用镜体，可用于明场、简易偏光、微分干涉相衬观察；
显微镜本体，反射照明器，物镜转换器都采用防静电设计(ESD)。
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