阴离子色谱柱的保护贮放和清洗溶液的使用

阴离子色谱柱使用简单的等度碳酸盐/碳酸氢盐洗脱液，可以快速分离各种样品基质（包括饮用水、废水、工艺液流和洗涤液）中的常见无机阴离子。

　　阴离子色谱柱的保护：

　　操作压力，一般情况下离子排斥操作压力不是很高，因此要注意较大压力和较大流速，以免造成不可逆损失。

　　启动，对于长期不用的色谱柱，用淋洗液冲洗20分钟，清除色谱固定相中的聚合物，以保护抑制器不被损坏。按测试色谱条件测试离子排斥分离度和重现性。

　　贮放

　　对于长期贮放离子排斥，需要用贮备液冲洗10分钟，拧紧两封口中。

　　阴离子色谱柱的清洗溶液：

　　a、高浓度的氢氧化物溶液如10倍的淋洗液用于去除低价亲水性污染物；

　　b、用1至3MHCl去除高价亲水性离子；

　　c、金属污染物会影响色谱峰形/改变被测物的回收率。如铁的污染会导致多聚磷酸盐的峰高减少，然而通过连接注射多聚磷酸样品，可以去除铁离子，也可以用1至3MHCl去除金属污染物，如果用酸处理仍不能除去污染物，可以采用螯合剂如0。2M草酸来处理；

　　d、有机污染物指非离子化合物或亲脂性化合物，可以采用兼容的有机溶剂去除；

　　e、在用有机溶剂清洗的同时，也可以加入高浓度的酸如1至3M盐酸，用酸来抑制电离及污染物与树脂之间的相互作用。通用的清洗溶液为200mMHCl和80%乙腈，溶液配制后立即使用，因为乙腈在酸性长期贮存条件下会分解。