全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。
技术指标
衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清洗功能。显影单元每个Cup配置1条显影液管路，具备独立清洗管路。自带废液回收装置。匀胶均匀性：片内（Wafer in 6inch）≤ 3%；显影均匀性：片内（Wafer in 6inch）≤ 5%。
主要功能
设备能支持130nm工艺技术，与光刻机相连作业，完成全自动光刻。系统包括2个匀胶单元、2个显影单元、7个热处理单元，可实现全自动匀胶、显影及烘烤工艺操作。
首页
