11月30日，国家知识产权局条法司司长张鹏在例行新闻发布会上介绍，国家知识产权局将继续积极配合相关部门，加快推进ZL法实施细则修改进程，尽早完成修改，更好保障ZL法实施，助力ZL事业高质量发展。
修改后的《中华人民共和国ZL法》已自2021年6月1日起施行。张鹏表示，新版ZL法修改内容主要是加强对ZL权人合法权益的保护，新增对严重故意侵权行为处以一至五倍的惩罚性赔偿，将法定赔偿数额提高至三万元以上五百万元以下，并完善举证责任，减轻权利人主张赔偿时的举证负担，完善ZL行政保护措施，明确诚实信用原则，新增药品ZL期限补偿和药品ZL纠纷早期解决相关规定。
此外，为促进ZL实施和运用，ZL法修改明确单位对职务发明创造的处置权，新增开放许可制度，加强ZL公共服务。同时，此次修改完善了ZL审查授权制度，新增新颖性宽限期适用情形、局部外观设计，完善ZL权评价报告制度，延长外观设计ZL期限。
ZL法实施细则是保证ZL法有效实施的重要配套行政法规，是对ZL法相关规定的进一步细化。张鹏表示，全国人大常委会通过关于修改ZL法的决定后，国家知识产权局立即启动ZL法实施细则修改工作，形成修改建议征求意见稿，于2020年11月至2021年1月向社会公开征求意见。在充分吸收采纳各方面意见的基础上，形成《ZL法实施细则修改草案（送审稿）》，报送相关部门进行审查。
据介绍，此次ZL法实施细则修改主要涉及以下四个方面内容：一是完善ZL审查制度，提升ZL审查质量和效率；二是加强ZL保护，维护ZL权人合法权益；三是落实“放管服”改革要求，促进ZL转化运用；四是新增外观设计国际申请专章，与国际规则对接。
张鹏介绍，下一步国家知识产权局将奋力推动知识产权法制工作迈上新台阶。商标法修改方面，要进一步加强商标专用权保护，规制商标恶意注册，完善商标授权确权程序，强化商标使用义务，推进品牌建设；地理标志立法方面，要明确促进特色产业发展、乡村振兴和传统文化传承的立法定位，健全专门保护与商标保护相互协调的统一地理标志保护制度；《集成电路布图设计保护条例》修改方面，要进一步凸显完善集成电路布图设计制度为数字经济发展服务的重要作用，同时，还要加强数据知识产权保护规则研究。
国家知识产权局知识产权保护司司长张志成在新闻发布会上介绍，行政裁决制度是我国ZL制度的重要内容。近年来，在各方共同努力下，行政裁决工作取得了积极成效。2013-2021年，全国知识产权管理部门共办理ZL侵权纠纷行政案件24.1万件，年均增幅达28.8%。
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