翻译后修饰（PTM）是指蛋白质在翻译后发生的化学修饰。抗体在生产、贮存及临床使用过程中，均可能产生各类翻译后修饰变异体。翻译后修饰可能导致抗体所带的电荷乃至结构发生变化，从而影响其与抗原及Fc受体的亲和力，进而影响抗体药物的活性等关键质量属性。因此，对抗体药物的各类翻译后修饰进行表征和工艺控制是有必要的。本文以抗体药物常见的糖基化修饰、天冬酰胺脱氨基修饰和天冬氨酸异构化修饰、氧化修饰、C-末端赖氨酸缺失修饰、N-末端焦谷氨酸环化修饰等为例对各类翻译后修饰做简要介绍。
糖基化修饰
氧化修饰
天冬酰胺脱氨基修饰和天冬氨酸异构化修饰
C-末端赖氨酸缺失修饰
人IgG抗体重链的C-末端多以-Pro-Gly-Lys结尾，在抗体生物合成及分泌过程中，C-末端赖氨酸会被细胞内外的羧肽酶综合作用而切除，但这种切除作用并不是完全的，从而出现赖氨酸残留的情况。C-末端赖氨酸变体是导致抗体电荷异质性的主要原因。不同数目的赖氨酸残留使抗体带有不同的净电荷，这种因赖氨酸切除导致的电荷差异而形成的变体称为赖氨酸变体。
单克隆抗体大规模生产时，赖氨酸变体应控制在合理范围内，并评估是否需作为在产品放行、稳定性试验和工艺改变时的一项检测指标。
N-末端焦谷氨酸环化修饰
参考文献
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