仪器名称: | 磁控溅射镀膜机 |
仪器编号: | 13001328 |
产地: | 中国 |
生产厂家: | 创世威纳科技公司 |
型号: | MSP-3200T |
出厂日期: | 201301 |
购置日期: | 201301 |
所属单位: | 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 |
放置地点: | 一楼平台 |
固定电话: | |
固定手机: | |
固定email: | |
联系人: | 魏治乾(010-62781090,19801221361,zhiqianwei@tsinghua.edu.cn) |
分类标签: | 微纳加工 集成电路 半导体工艺 溅射镀膜 |
技术指标: | 目前可溅射的材料如下: A腔室:SiO2、ITO、ZnO、TiO。B腔室: Al、Cu、Ti、Mo、TiW。 |
知名用户: | 王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学) |
技术团队: | 工艺工程师:韩冰 设备工程师:仲涛 工艺主管:伍晓明 设备主管:刘朋 实验室主任:吴华强 |
功能特色: | 主要用于溅射各类金属和氧化物薄膜; 本设备有两个相互独立的腔室,可分别用于溅射金属和非金属类薄膜,每个腔室可以放置三块不同的靶材; 样品尺寸:4寸及以下整片或碎片 目前可溅射的材料如下: Al、Cu、Ti、Mo、TiW、SiO2、ITO、ZnO、TiO。 |
项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
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双腔溅射 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 400.0 | 贵重金属加收材料费100元/10nm |
双腔送样溅射 | 元/小时 | 测试费 | 400.0 | 贵重金属加收材料费100元/10nm |