| 仪器名称： | 清洗机 |
| 仪器编号： | 11023084 |
| 产地： | 中国 |
| 生产厂家： | 中联科利 |
| 型号： | CUC-XS004A-05-10-M-A |
| 出厂日期： | 200612 |
| 购置日期： | 201111 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺 |
| 放置地点： | 微电子所新所一层微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 宗莉（010-62784044,13693600842,jtsgzhz@163.com） 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 微纳加工 集成电路 半导体工艺 清洗 |
| 技术指标： | 多种清洗功能 |
| 知名用户： | 王喆垚(微电子所)、陈兢(北京大学)、何立平(中科院物理所)、严清峰(化学系)、许军(微电子所)、尤政(精仪系) 朱荣(精仪系)、张志勇(北京大学)、金传洪(浙江大学) |
| 技术团队： | 设备工程师：曹秉军 工艺工程师：宗莉 设备主管：刘朋 工艺主管：伍晓明 实验室主任：吴华强 |
| 功能特色： | 本清洗机可使用多种清洗液，具有温度控制功能，清除硅片表面的微粒、有机物及无机物等杂质。还可以用来清除硅片表面的自然氧化层，去除硅片表面的光刻胶。本设备清洗的标准工艺是硫酸加过氧化氢加热到120度清洗，可清洗硅片的尺寸是2英寸、3英寸、4英寸。本设备还可用重铬酸钾溶液清洗玻璃器皿。 |
样品要求：
可清洗硅片的尺寸是2英寸、3英寸、4英寸
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
| 项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
|---|---|---|---|---|
| 清洗 | 元/小时 | 自主上机机时费 | 350.0 | |
| 送样清洗 | 元/小时 | 测试费 | 350.0 |
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