| 仪器名称： | 干法刻蚀机 |
| 仪器编号： | 16002654 |
| 产地： | 美国 |
| 生产厂家： | LAM |
| 型号： | LAM4520XL |
| 出厂日期： | 199801 |
| 购置日期： | 201602 |
| 所属单位： | 集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺 |
| 放置地点： | 微纳平台 |
| 固定电话： | |
| 固定手机： | |
| 固定email： | |
| 联系人： | 窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分类标签： | 刻蚀 半导体 |
| 技术指标： | 介电材料刻蚀：ICP模式；刻蚀精度：0.35微米 |
| 知名用户： | 王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系） |
| 技术团队： | 吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛 |
| 功能特色： | 自动化操作，刻蚀方式： ICP模式；刻蚀精度：0.35微米；主要刻蚀介质：Si3N4、Si、POLY-Si、SiO2等材料.刻蚀尺寸：8英寸。均匀性小于5%。 |
样品要求：
单片式；硅片尺寸：8英寸
预约说明：
实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则
取消预约需提前2个小时通过网上取消预约
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