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Kurtj.Lesker高真空电子束蒸发系统共享

2024.5.30
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zhaoqisun

致力于为分析测试行业奉献终身

仪器名称:高真空电子束蒸发系统
仪器编号:14030917
产地:美国
生产厂家:Kurtj.Lesker
型号:KJLC PVD75
出厂日期:190507
购置日期:201412

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所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺
放置地点:微电子所新所一楼微纳平台
固定电话:
固定手机:
固定email:
联系人:韩英(010-62782076,18601218109,hanying@mail.tsinghua.edu.cn)
窦维治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
分类标签:半导体 电子束蒸发 材料制备
技术指标:

真空度可达到10-8Torr量级;具有基片加热功能,最高可以加热到450℃

知名用户:钱鹤研究员,吴华强副研究员,王敬研究员
技术团队:

吴华强副研究员,伍晓明副研究员,窦维治支持工程师,韩冰设备工程师,李志东工艺工程师

功能特色:

该设备具有以下特点:真空度可达到10-8Torr量级;具有基片加热功能,最高可以加热到450℃;可对8英寸及以下硅片进行镀膜;蒸发速率快,均匀性好;所蒸发的金属薄膜易于剥离;同时能够对薄膜的蒸发速率和厚度进行实时监测。目前可蒸发材料包括Al,Sc,Sn,Ge等。

样品要求:

可对8英寸及以下硅片进行镀膜


预约说明:

实验室的设备采用网上预约的方式、以先约先用为基本原则

取消预约需提前2个小时通过网上取消预约

项目名称计价单位费用类别价格备注
上机费元/小时自主上机机时费800.0
送样测试费元/小时测试费800.0


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