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Picosun Oy真空互联-原子层沉积系统共享应用

2024.5.30
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zhaoqisun

致力于为分析测试行业奉献终身

仪器名称:真空互联-原子层沉积系统
仪器编号:21029113
产地:芬兰
生产厂家:Picosun Oy
型号:R-200 Advanced
出厂日期:
购置日期:2021-11-25

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所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>真空互联
放置地点:微电子学研究所南平房实验室108号
固定电话:01062784044
固定手机:13051135063
固定email:zygao@mail.tsinghua.edu.cn
联系人:
分类标签:半导体 薄膜 微纳
技术指标:

样品最大尺寸: 8英寸(兼容2英寸)

◇ 样品不均匀性:优于1.0%

◇ 载物台最高温度: 500 °C

◇ 腔体最高温度: 500 °C

◇ 前躯体最高加热温度: 200 °C

◇ 带等离子增强功能,射频电源300 W

◇ 气路:O plasma, H2O,Al源,Ti源,Hf源,Zr源六路前躯体管路

知名用户:科学学院宋成教授课题组
技术团队:

微电子所

功能特色:

将物质以单原子膜形式一层一层的生长在沉底上

样品要求:

8英寸(兼容2英寸)


预约说明:

由于该套系统的特殊性,将采用不同以往的开放形式:使用设备团队负责人提出项目申请、项目评审委员会提出预审意见并由中心主任审批、设备工程师负责具体机时安排和使用培训。

项目名称计价单位费用类别价格备注
材料生长元/小时自主上机机时费750.0使用Pt贵重前驱体需430元/10nm


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