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本标准规定了多晶硅铸锭石英坩埚用熔融石英料的技术要求、检验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于太阳能级多晶硅铸锭石英坩埚用熔融石英料。
Fused quartz used for quartz ceramic crucibles for casting polycrystalline silicon
本标准规定了光伏用高纯石英砂的技术要求、检验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于光伏用高纯石英砂,产品用于多晶硅、单晶硅光伏生产用的扩散管、承载器及电弧法坩埚等石英制品。
High purity arenaceous quartz used in photovoltaic applications
本标准规定了石英砂中铝、钙、铁、钠、钾、锂、镁、铬、镍、硼、锰、铜、钛痕量元素的测定方法。 本标准适用于石英砂中铝、钙、铁、钠、钾、锂、镁、铬、镍、硼、锰、铜、钛痕量元素含量的测定。其他元素含量的测定可参照本标准执行。
Determining the content of trace elements in arenaceous quartz by inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS)
GB/T 5838的本部分规定了荧光粉材料常用的名词术语和定义。 本部分适用于荧光粉常用名词术语的理解和使用。
Phosphors.Part 1:Terminology
本标准规定了平板显术器用偏光膜衰面硬度的测试方法”本标准适用于平板显示器偏光膜表面硬度的测试。
Test method for surface hardness of flat panel display (FPD) polarizing film
GB/T11446 的本部分规定了电子级水的电阻率的测试方法。 本部分适用于电子级水电阻率测试。
Test method for resistivity of electronic grade water
GB/T11446 的本部分规定了电子级水中细菌总数(活菌)的滤膜培养测试方法。 本部分适用于EW-工一EW-K级电子级水中细菌总数的测定。
Test method for total bacterial count in electronic grade water by membrane filters
GB/T 11446的本部分规定了无火焰(或火焰)原子吸收分光光度计测定电子级水中痕量金属铜、锌、镍、铁、铅、钠和钾的测试方法。也可使用灵敏度相当的其他仪器如电感耦合等离子体/质谱仪(或电感耦合等离子体发射光谱仪)测量。无火焰原子吸收分光光度适用于EW-I~EW-III级电子级水中痕量金属的测定。方法的检出限(质量分数)应在1×10以下。火焰原子吸收分光光度法适用于EW-IV电子级水中痕量金属的测定。
Test method for measuring trace metals in electronic grade water by atomic absorption spectrophotometry
GB/T 11446的本部分规定了电子级水的采样、贮存与运输及报告的格式。本部分适用于EW-I~EW-IV级电子级水。
Generic rules for test methods of electronic grade water
GB/T 11446的本部分规定了电子级水中总有机碳的测试方法。本部分适用于电子级水中总有机碳的测定。
Test method for total organic carbon in electronic grade water
GB/T 11446的本部分规定了电子级水中二氧化硅的分光光度测试方法。本部分适用于电子级水中二氧化硅的测定,其中检出限为1 μg/L。
Test method for Si02 in electronic grade water by spectrophotometer
GB/T11446的本部分規定了屯子級水的級別‵技未指椋要求‵武酸方法和栓酸規則〝本部分适用于电子和半导体下业用高纯清洗用水。
Electronic grade water
GB/T11446 的本部分规定了电子级水中痕量握离子(FE-)、氨离子(CI)、亚硝酸根离子(NOz )、省离子(Br-)、硝酸根离子(NO).构酸根离子(POi-)、硫酸根离子(SO和)的离子色谱测试方法。 本部分适用于电子级水中痕量氟离子.氨离子、.亚硝酸根离子.省离子、硝酸根离子、杰酸根离子、硫酸根离子的测定,其中检出上限依次为0.7 pg/L.0.8pg/LTHgEAL.LpPgE人LTRg/L.THg/工和1 Hg/L。
Test method for trace anion in electronic grade water by ion chromatography
GB/T 11446的本部分规定了电子级水中微粒的仪器测定方法。本部分适用于电子级水中微粒的连续式或单次检测计数,测定的微粒粒径不小于0.05 μm,微粒的浓度范围为0~10 000个/mL。
Test method for particles in electronic grade water by instrument
本标准规定了印制板用光成像耐电镀抗蚀剂的术语和定义、性能、试验方法、检验规则和包装。本标准适用于印制板制造用的光成像耐电镀抗蚀剂、光成像抗电镀剂、光成像抗酸性蚀刻剂和光成像抗碱性蚀刻剂。
Photoimageable plating and etching resist paste of printed circuit board
本标准规定了印制板用铜箔外观、尺寸、物理性能、工艺性能及莫他性能的试验方法.本标准适用于刚性及挠性印制板用铜箔。
Test methods for copper foil used for printed boards
本标准规定了厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本标准适用于厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的生产和采购,采用厚膜工艺的片式元件用氧化铝陶瓷基片(以下简称基片)也可参照使用。
Alumina ceramic substrates for thick film integrated circuits
本标准规定了薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则标志、包装.运输和贮存。 本标准适用于薄膜集成电路用氧化铝陶瓷基片(以下简称“基片>的生产和采购,采用薄膜工艺的片式元件用氧化館陶瓷基片也可參照使用。
Alumina ceramic substrates for thin film integrated circuits
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
本标准规定了光伏组件封装用乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)胶膜(以下简称EVA胶膜)的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存。本标准适用于以乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)为主要原料,添加各种助剂,经熔融加工成型,用于地面光伏组件封装的胶膜。
Ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) film for encapsulant solar module
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