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GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定,测定范围(质量分数)为铝、铁、锌、铅0.00005%~0.0040%,铜、镉、铊0.00002%~0.0040%。
Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 3:Determination of aluminum,iron,copper,zinc,cadmium,lead and thallium content- inductively coupled plasma mass spectrometry
GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟中氯量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟中氯量的测定,测定范围(质量分数)为0.025%~0.80%。
Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 5:Determination of chlorine content.Mercuic sulfocyanide spectrophotometry
本标准规定了高纯氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。 本标准适用于以金属铟为原料,经净化、中和、沉淀和焙烧制得的高纯氧化铟,产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。 分子式:InO 相对分子质量:277.63(按2007年国际相对原子质量)
High purity indium oxide
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中砷量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中砷量的测定,测定范围(质量分数)为0.00001~0.0050%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 1:Determination of arsenic content.Atomic fluorescence spectrometry
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中锡量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中锡量的测定,测定范围(质量分数)为0.00005~0.0040%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 2:Determination of tin content.Phenylfluorone spectrophotometry
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中锑量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中锑量的测定,测定范围(质量分数)为0.00001~0.0080%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 3:Determination of antimony content.Atomic fluorescenece spectrometry
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定。 测定范围(质量分数)为铝、锌、铅0.00005%~0.0040%,铜、镉、铊0.00002%~0.0040%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 4:Determination of aluminum,iron,copper,zinc,cadmium,lead and thallium content.Inductively coupled plasma mass spectrometry
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中氯量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中氯量的测定,测定范围(质量分数)为0.0025%~0.80%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 5:Determination of chlorine content.Mercuric sulfocyanide spectrophotometry
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟的灼减量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟的灼减量的测定,测定范围(质量分数)为0.05%~1.00%。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 6:Determination of the loss on ignition.Gravimetric analysis
本标准规定了镓(Ga)的要求、试验方法、检验规则、包装、运输、贮存等。 本标准适用于氧化铝生产过程中回收制取的工业镓(99.9%~99.999%)和以工业镓为原料经电解精炼等方法制取的高纯镓(99.999 9%~99.999 99%)。
Gallium
本标准规定了高纯二氧化锗的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则等。 本标准适用于以高纯四氯化锗为原料,经水解、洗涤和烘干制得的二氧化锗。产品供制作还原锗、有机锗和催化剂等用。
High purity germanium dioxide
本标准规定了镓的技术要求,试验方法,检验规则和标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于氧化铝生产过程中回收的、供制取高纯镓等用的工业镓。
Gallium
本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99%的工业镓为原料,经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999%的镓;再以此为原料,经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999%的镓。产品供制备化合物半导体材料和高纯合金等用。
High purity gallium
Monocrystalline germanium and monocrystalline germanium slices
本文件适用于以金属铟和金属镁为原料,经渗氢法制得的三甲基铟用铟镁合金。
Indium magnesium alloy
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