【会议简介】

纳米压痕技术的诞生与薄膜材料的发展密不可分。上世纪80年代，随着薄膜技术的不断发展以及在半导体领域的广泛应用，厚度在微米级甚至纳米级的薄膜有着大量的市场需求，而这些薄膜的微观力学行为表征备受关注。传统的力学性能测试方法已无法满足微米、纳米尺度薄膜材料的表征，因此纳米压痕技术的出现弥补了这一领域的空白，之后的二十多年有关纳米压痕理论及利用纳米压痕来进行纳米力学行为表征的相关研究呈指数增长，相关技术也相继应用于各种新兴工业领域。而不断出现的纳米力学表征新技术，与人类不断推进探究材料微观性能的极限，两者相辅相成，成为当今科研前沿领域的一种新模式。

【会议时间】2022年4月27日 10:00

【会议日程】

【报告简介】
金属氧化物材料的光电子能谱电子结构表征
宽禁带氧化物半导体具有透明、迁移率高、稳定性高等特性，在显示、光伏、功率电子器件等产业领域具有广泛应用。我们的工作主要集中在氧化物半导体薄膜的外延制备、能带调控及光电子器件研究。本报告将简要介绍宽禁带氧化物半导体材料及光电器件应用的背景，然后以氧化物半导体的N-型掺杂，X-射线光电子能谱与吸收谱的半导体能带结构表征，P-型氧化物半导体的能带调控为例讲解金属氧化物半导体电子结构的表征。
安捷伦Cary7000 UV-Vis-NIR光谱仪在光学薄膜分析中的应用
安捷伦Cary7000 UV-Vis-NIR光谱仪具备六种测量模式，包括：透射、绝对反射、漫透射、漫反射、散射透射以及散射反射。它可以在不更换任何附件的基础上，完成同一样品的相同位置在不同角度下的多个光学性能指标的表征，获得最准确的数据。Cary7000 UV-Vis-NIR光谱仪为光学薄膜、半导体及太阳能材料的研究开发、表征以及最终产品的QA/QC测试提供了一站式解决方案。
本次课程您将会了解到：
1）    光学样品性能测试面临的挑战以及对测试设备的基本要求
2）    安捷伦Cary7000 UV-Vis-NIR光谱仪的创新设计及其在光学材料测试中的应用